德国公司Nanoscribe是高精度增材制造技术的带领开发商，也是BICO集团（前身为Cellin）的一部分，推出了一款新型高精度3D打印机，用于制造微纳米级的精细结构。据该公司称，新的QuantumX形状加入了该公司屡获殊荣的QuantumX产品线，其晶圆处理能力使“3D微型零件的批量处理和小批量生产变得容易”。它有望显着提高生命科学、材料工程、微流体、微光学、微机械和微机电系统(MEMS)应用的精度、输出和可用性。基于双光子聚合(2PP)，一种提供比较高精度和完整设计自由度的增材制造方法和Nanoscribe专有的双光子灰度光刻(2GL)技术，Nanoscribe认为直接激光写入系统是微加工的比较好选择几乎任何2.5D或3D形状的结构，在面积达25cm²的区域上都具有亚微米级精度。Nanoscribe的联合创始人兼首席安全官(CSO)MichaelThiel表示，该公司正在通过其新机器为科学和工业用途的晶圆级高精度微制造设定新标准。“虽然QuantumX已经通过双光子灰度光刻技术推动了平面微光学器件的超快速制造，但我们希望QuantumX形状能够使基于双光子聚合的高精度3D打印成为非常出色的高效可靠工具用于研究实验室和工业中的快速原型制作和批量生产。”纳糯三维科技，微纳3D打印专业人才。有咨询需求，马上联系开启合作。闵行区芯片上微纳3D打印激光直写
微纳3D打印技术的优势主要体现在以下几个方面：高精度和复杂性：微纳3D打印技术可以在微米和纳米尺度上实现高精度的打印，能够制造出具有复杂几何形状和微观结构的零件。这种能力使得微纳3D打印在生物医学、电子、光学和航空航天等领域具有广泛的应用前景。特别是在需要高精度和复杂结构的器件制造中，微纳3D打印技术展现出了独特的优势。定制化设计：微纳3D打印技术可以根据用户需求进行定制化设计，满足个性化需求。设计师可以根据实际应用场景，灵活调整打印参数和材料，实现创新设计。这种定制化设计的能力使得微纳3D打印在特殊材料和复杂结构的制造中具有很高的灵活性。材料利用率高：与传统的加工方法相比，微纳3D打印技术的材料利用率更高。在打印过程中，只有需要的材料才会被使用，从而避免了不必要的浪费。这不*有助于降低生产成本，还能提高生产效率，减少对环境的影响。广泛的应用范围：微纳3D打印技术适用于多种材料和结构类型，可以制造金属、塑料、陶瓷等多种材料的微纳结构。这使得它在微机电系统、微纳光学器件、微流体器件、生物医疗和组织工程、新材料等领域具有巨大的应用潜力。此外。杨浦区双光子聚合微纳3D打印微纳3D打印推荐纳糯三维科技（上海）有限公司。
高精度和复杂性：微纳3D打印系统可以在微米和纳米尺度上实现高精度的打印，从而制造出具有复杂几何形状和微观结构的零件。这使得它在生物医学、电子、光学和航空航天等领域具有广泛的应用前景。例如，在生物医学领域，微纳3D打印技术可以用于制造生物材料、医疗器械、药物载体、细胞和组织培养等，有助于提高医疗诊断水平。定制化设计：微纳3D打印系统可以根据用户的需求定制设计，从而实现个性化和定制化生产。这为设计师提供了更大的设计自由度，使得他们可以更容易地实现创新设计。材料利用率高：与传统的加工方法相比，微纳3D打印系统的材料利用率更高。在打印过程中，只有需要的材料才会被使用，而不需要的材料则会被避免使用，这有助于降低生产成本，提高生产效率。技术多样性和灵活性：微纳3D打印技术具有结构简单、可用材料种类多、无需激光、无需真空、无需液态试剂等优点，能制造高精度复杂三维结构、节省材料。此外，它在复杂3D微纳结构、高深宽比微纳结构、多材料和多尺度的微纳结构、平行模式打印多个微纳结构以及嵌入异质结构制造方面具有突出的潜力和优势。
Nanoscribe公司推出针对微光学元件（如微透镜、棱镜或复杂自由曲面光学器件）具有特殊性能的新型打印材料，IP-n162光刻胶。全新光敏树脂材料具有高折射率，高色散和低阿贝数的特性，这些特性对于3D微纳加工创新微光学元件设计尤为重要，尤其是在没有旋转对称性和复合三维光学系统的情况下。由于在红外区域吸收率不高，因此光敏树脂成为了红外微光学的优先，同时也是光通讯、量子技术和光子封装等需要低吸收损耗应用的相当好的选择。全新IP-n162光刻胶是为基于双光子聚合技术的3D打印量身定制的打印材料。高折射率材料可实现具有高精度形状精度的创新微光学设计，并将高精度微透镜和自由曲面3D微光学提升到一个新的高度。由于其光学特性，高折射率聚合物可促进许多运用突破性技术的各种应用，例如光电应用中，他们可以增加显示设备、相机或投影仪镜头的视觉特性。此外，这些材料在3D微纳加工技术应用下可制作更高阶更复杂更小尺寸的3D微光学元件。例如图示中可应用于微型成像系统，内窥镜和AR/VR3D感测的微透镜。越来越多的艺术家、设计师参与到3D打印技术的应用中。
NanoscribeQuantumXalign作为前列的3D打印系统具备了A2PL®对准双光子光刻技术，可实现在光纤和光子芯片上的纳米级精确对准。全新灰度光刻3D打印技术3Dprintingby2GL®在实现优异的打印质量同时兼顾打印速度，适用于微光学制造和光子封装领域。3Dprintingby2GL®将Nanoscribe的灰度技术推向了三维层面。整个打印过程在最高速度扫描的同时实现实时动态调制激光功率。这使得聚合的体素得到精确尺寸调整，以完美匹配任何3D形状的轮廓。在无需切片步骤，不产生形状失真的要求下，您将获得具有无瑕疵光学表面的任意3D打印设计的真实完美形状。在科研领域,Nanoscribe 的系列3D打印设备帮助推动着微纳光学，微机电系统等等领域的研究和发展。虹口区双光子微纳3D打印服务
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Nanoscribe的PhotonicProfessionalGT2使用双光子聚合(2PP)来产生几乎任何3D形状：晶格、木堆型结构、自由设计的图案、顺滑的轮廓、锐利的边缘、表面的和内置倒扣以及桥接结构。PhotonicProfessionalGT2结合了设计的灵活性和操控的简洁性，以及比较广的材料-基板选择。因此，它是一个理想的科学仪器和工业快速成型设备，适用于多用户共享平台和研究实验室。Nanoscribe的3D无掩模光刻机目前已经分布在30多个国家的前沿研究中，超过1,000个开创性科学研究项目是这项技术强大的设计和制造能力的特别好证明。Nanoscribe公司的PhotonicProfessionalGT2系统把双光子聚合技术融入强大了3D打印工作流程，实现了各种不同的打印方案。双光子聚合技术用于3D微纳结构的增材制造，可以通过激光直写而避免使用昂贵的掩模版和复杂的光刻步骤来创建3D和2.5D微结构制作。PhotonicProfessionalGT2系统可以实现精度上限的3D打印，突破了微纳米制造的限制。该打印系统的易用性和灵活性的特点配以比较广的打印材料选择使其成为理想的实验研究仪器和多用户设施。闵行区芯片上微纳3D打印激光直写
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